氟化锂晶体的透射率在真空紫外110nm到红外6.0μm之间，是真空紫外区透射率最好的材料。该晶体广泛用于制备紫外-可见-红外领域的光学窗口、透镜、棱镜和折射元件。低折射率允许晶体直接使用，无需防反射涂层。氟化锂晶体也可用作X射线探测器晶体，以及OLED显示屏的涂层材料。我们可以提供通过拉法和下降法生长的高质量氟化锂单晶。

使用/应用

LiF被广泛用于制备紫外-可见-红外领域的光学窗口、透镜、棱镜和折射元件。
可直接使用，无需防反射涂层。
氟化锂晶体也可用作X射线探测器晶体，以及OLED显示屏的涂层材料。

特点/优势

氟化锂晶体的透射率在真空紫外110nm到红外6.0μm之间，是真空紫外区透射率最好的材料。
它的折射率很低。

• 参数

  晶体结构	立方
  晶格常数	a=4.026 Å
  熔点（℃）	870
  密度（g/cm3）	2.635
  硬度	4.0（mohs）
  热膨胀系数	37.0 x 10-6 /K
  折射率	n=1.39
  透过波段	0.11-7.00 μm
  透 过 率	> 90% @0.2~4.5 μm;
  色彩离差Hf-Hc	0.00395
  温度系数dh/dt x 10-6	12.7 @0.6 m
  晶体生长方法	Bridgeman或者CZ
  解理面	<100>
  尺寸	10*10，20*20，30*30，Ø50.8mm
  厚度	0.5mm，1.0mm 或者根据客户要求定做
  抛光	单面或双面
  晶面定向精度:	±0.5°
  边缘定向精度:	2°（特殊要求可达1°以内）
  Ra:	≤10Å（5µm×5µm）
  包装	100级洁净袋，1000级超净室

  
  

• 尺寸

•