用 途 | 同步辐射样品载体、PVD/CVD镀膜做衬底、磁控溅射生长样品、XRD、SEM、原子力、红外光谱、荧光光谱等分析测试基底、分子束外延生长的基底、X射线分析晶体、半导体光刻. |
产品尺寸 | 直径300mm |
表面处理 | DSP双面抛光,单抛 |
生长方式 | CZ直拉 |
厚 度 | 700±50um |
掺杂类型 | N型,p型 |
晶 向 | 100或110 |
电 阻 率 | 0.0001-10000(Ω·cm) 按要求 |
服务创造价值、存在造就未来
用 途 | 同步辐射样品载体、PVD/CVD镀膜做衬底、磁控溅射生长样品、XRD、SEM、原子力、红外光谱、荧光光谱等分析测试基底、分子束外延生长的基底、X射线分析晶体、半导体光刻. |
产品尺寸 | 直径300mm |
表面处理 | DSP双面抛光,单抛 |
生长方式 | CZ直拉 |
厚 度 | 700±50um |
掺杂类型 | N型,p型 |
晶 向 | 100或110 |
电 阻 率 | 0.0001-10000(Ω·cm) 按要求 |
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